LCD制作从初期入料净化到成膜前净化以及光阻前净化到和配向净化到完工净化，需要不少于二十次的净化工程，更需要使用到各种净化设备，目的是要将玻璃基板上的杂质以清洗剂净化，由于这些净化工程对于后续制程良率影响极大，因此LCD净化设备在制程所扮演的角色也就显得格外重要，未来发展情况愈来愈受重视。净化设备分为两种；一种是以卡匣为单位，将数个基板一起浸泡在净化槽中进行净化处理的群组式设备，以及将基板分片搬送，再用清洗液冲洗基板正反面来进行净化工程的单片式设备。
在LCD玻璃基板的制程中有很多采用群组式净化设备，主要是因为以卡匣为单位处理基板，生产量高，但因基板尺寸变大，设备的高度也会变高，加上清洗液循环使用以及卡匣和基板一起净化的影响，会产生无法完全净化等问题，因此群组式净化设备在TFT制程上的应用有所限制.单片式净化设备虽然也会随着基板面积扩大而变大，但设备高度影响却比较少。而且单片式净化设备可以做到群组式净化设备较难做到的单片基板净化，以及可依清洗液不同进行深度净化，所以成为LCD净化设备的主流。
针对LCD玻璃基板大型化与低价化等要求，进一步的降低价格、节省空间、提升产量及提升维修性等为净化设备的新课题。而且依净化制程不同，最适当的单片式净化设备的种类也有所不同，因此，未来需要开发各种净化设备。目前已开发完成可净化1公尺平方基板的水平单片式净化设备，但客户仍要求减少药液使用量和提高净化工具的处理效率等问题，因此未来工具开发与净化设备效率的提升，都是相关设备研发改善的重要课题。
另外，可净化到3.5代基板尺寸的旋转单片式设备已开发完成，但是未来将面对的是1公尺平方玻璃基板的低温多晶硅TFT制程，业者则期待能有可用在大型基板与LTPS制程的高度净化设备。因此，除了刷毛类的物理净化工具与背面处理工具外，新的旋转式净化设备与工具的开发动作也相当受关注。